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上海微电子携SMEE 300系列光刻机进军LED工业www.ag88.com

2018-09-15 17:34      点击:

  上海微电子携SMEE 300系列光刻机进军LED工业

  致力于投影光刻机研制、出产、销售与效劳的上海微电子配备有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment;SMEE),日前在台参与半导体展,展出了用于封装以及LED工业光刻机设备。

  此次半导体展,上海微电子配备有限公司展出SSB500系列步进投影光刻机,根据先进的步进光刻机渠道技能,供给掩盖IC后道封装、MEMS/NEMS制作的步进投影光刻机。该系列光刻机选用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源,其先进的逐场调焦调平技能对薄胶和厚胶工艺,以及3D-TSV结构等具有杰出的主动习惯性,并经过选用自主专利的图画智能辨认技能,无需专门规划特别对准符号。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高出产率等一系列长处,可满意用户对设备高性能、高可靠性、低运用本钱(COO)的出产需求。

  

上海微电子携SMEE 300系列光刻机进军LED工业

  

上海微电子SSB300/10A步进投影光刻机,适用于2-6英吋基底LED的PSS和电极的光刻工艺。

  别的,也展出SSB300系列步进投影光刻机,该系列机台适用于2~6英吋基底LED的PSS和电极的光刻工艺。可以应对大翘曲蓝宝石基底的曝光,可以完成2~6英吋基底的主动切换,可以在出产中实时监测基底面型,保证客户在运用过程中不再受吸盘污染的困扰。选用高性能减缩式物镜保证亚微米分辨率和高曝光均匀性、精细特制运动台体系完成高精度的图形拼接与准确的套刻。具有低运用本钱、高曝光均匀性、高产能等特色,可满意LED出产线的各种运用要求。除此之外,该系列机台还可以习惯硅和SiC等多种基底的曝光、可选反面对准装备,将机台的使用扩展至MEMS范畴。www.ag88.com

  

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